Micron工廠今年將上1-gamma製程，為部署EUV光刻技術做準備

根據Micron在Computex 大會上的演講，三家設在台中的工廠之一將在今年晚些時候升級EUV 光刻技術，從而為DRAM升級到1-gamma製程做準備。1-gamma 在上線初期只是研發製程，以幫助該公司為更廣泛地推廣EUV技術做準備。

目前Micron的DRAM主要是採用1-alpha製程，而公司希望明年在台灣的工廠將1-beta製程轉為限量生產。Micron目前的1-alpha製程是採用DUV技術的，並在去年推出，該公司聲稱其記憶體密度比之前的1Z提高了40%。

Micron不再提及其常用的nm測量法的晶片尺寸，但據說其1Z製程約為11至13nm，因此如果其1-alpha製程尚未低於10nm，那麼1-beta製程最終很可能會低於10 nm。

Micron的長期路線圖還包括1-delta製程，這本來是它的第一個EUV產品，但現在似乎已經提前到了1-gamma製程。Micron很可能會在適當的時候將其其他工廠轉移到EUV，但到目前為止與大多數其他類型的整合電路相比，DRAM還沒有從製程收縮中受益，所以EUV可能帶來的收益可讓我們拭目以待。

消息來源

"據說其1Z製程約為11至13nm"

這推測有問題.
1x, 1y, 1z 不會是 11nm,
1 alpha 也離一段!   

可以一次性端出 真.10nm 工藝的 DRAM 嗎?