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作者: Kimi
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[業界新聞] 晶片製造速度起飛!台積電、新思科技首次採用NVIDIA計算光刻平台:最快加速60倍

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Kimi 發表於 2024-3-19 12:28:58 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式


GTC 2024大會上,NVIDA正式宣布,為加快下一代先進半導體晶片的製造速度並克服物理限制,TSMC (台積電)和Synopsys(新思科技)將在生產中率先使用NVIDIA計算光刻平台。

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眾所周知,台積電是全球領先的晶圓代工廠,而新思科技則是晶片到系統設計解決方案的領導者。二者已將NVIDIA cuLitho加速運算光刻光平台,整合到其軟體、製造流程和系統中,在加速晶片製造速度的同時,也加速了對未來最新一代NVIDIA Blackwell架構GPU的支援。

在現代晶片製造過程中,計算光刻是至關重要的一步,是半導體製造中最苛刻的工作負載,需要大規模的資料中心,而隨著時間的推移,矽小型化演進過程呈指數級放大了計算的需求。

如果使用CPU來計算,每年需要在計算光刻上消耗數百億個小時。例如一個典型的晶片掩模,就需要3000萬小時或更長時間的CPU運算時間。透過加速運算,350個NVIDIA H100 GPU現在可以取代40,000 CPU 系統,進而縮短生產時間,同時降低成本、空間和功耗。

據悉,NVIDIA的計算光刻平台可將半導體製造最密集的運算工作負載加速40-60倍。

NVIDIA也推出了新的生成式AI演算法,該演算法將進一步增強cuLitho的效率,與目前基CPU計算的方法相比,大幅改進了半導體製造製程。



  • 「運算光刻是晶片製造的基石,」NVIDIA創辦人兼CEO黃仁勳說。
“  我們與台積電和新思科技合作在cuLitho上工作,應用加速計算和生成式人工智能,為半導體擴展開闢了新的領域。”

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