作為半導體製造中的核心設備之一,曝光機至關重要,7nm以下製程所需的EUV曝光機只有ASML能生產,但是,今年EUV曝光機的聲勢降了,DUV曝光機需求反而暴增。
ASML日前公布第二季財報,單季營收達到69.02億歐元,相較前一年同期成長27.1%,相較第一季成長2.31%,接近之前的指引上限並創歷史新高。達成淨利潤19.42億歐元,相較前一年同期成長37.62%,相較第一季減少0.72%。
ASML單季的毛利率為51.3%,高於指引,相較前一年同期提升2.2%,相較前一季提升0.7%,主要是浸沒式DUV設備快速出貨帶來的,淨利率為28.1%,相較前一年同期提升2.1%,相較第一季降低0.9%。
於ASML出售的設備中,EUV曝光機的營收佔比此次大幅降低了,只佔37%,當季總出貨量為113台,EUV曝光機從前一季的17台減少至12台,ASML對EUV曝光機業務的成長預期亦從40%降低至25%。
EUV曝光機出貨減少主要與目前的半導體市場環境有關,各大晶圓廠的先進製程投資皆在放緩。另一方面,DUV曝光機需求反而大增,整年出貨量可能較之前預期的375台還要多,營收成長50%以上。
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