Micron將EUV技術導入日本，以推進下一代記憶體製造

Micron今天宣布將向日本導入極紫外 (EUV) 技術，利用這種複雜的圖案化技術來製造其下一代DRAM，即1-gamma (1γ) 製程。Micron將成為第一家將EUV技術導入日本進行生產的半導體公司，其廣島工廠在該公司1-gamma製程的開發中發揮了關鍵作用。Micron預計未來幾年將在1-gamma製程技術上投資高達5000億日元，並得到日本政府的密切支持，以實現下一波技術創新，例如迅速興起的生成人工智慧應用。

隨著製程技術的不斷進步以擴展儲存單元和提高性能，Micron提高了存儲密度，提高了能效並降低了每位成本，從而有助於為數位化、可持續性和綠色轉型以及自動化創造新的機會。1-gamma的推出是在Micron 1-beta (1β) 的開發之後推出的，後者是當今業界最先進的DRAM製程，Micron在其廣島工廠大規模生產。Micron繼續在其EUV整合計劃上取得進展，並預計從2025年起將EUV在台灣和日本的1-gamma製程上投入生產。

Micron總裁兼首席執行官(Sanjay Mehrotra表示在過去十年中，Micron在廣島的業務一直是多項行業領先記憶體技術的開發和生產的核心。我們很自豪能夠率先在日本使用EUV，並在我們的廣島工廠開發和製造1-gamma。我們的計劃反應了我們對日本的持續承諾、與日本政府的牢固關係以及Micron廣島的傑出人才團隊。近年來日本經濟產業省 (METI) 提供了大量投資支援並製定了長期戰略，旨在為該國領先的半導體製造、彈性供應鍊和數位經濟奠定堅實的基礎.

美國駐日本大使Rahm Emanue表示今天Micron與日本宣佈在廣島生產1-gamma製程，這是確保半導體供應鏈安全的重要一步。這種夥伴關係展示了盟友在共同努力時如何能夠在尖端技術方面創造經濟機會和安全。

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