據經濟日報報導台積電致股東營業報告書今(5)日上傳,報告提及台積電技術發展,正為預計於2025年開始量產的2nm技術(N2)做準備,該製程技術將座落於新竹和台中科學園區。
技術發展方面,台積電致股東營業報告書說,公司的N2技術提供全製程效能和功耗效率的效益;相較於N3E,N2在相同功耗下速度增快10%-15%,或在相同速度下功耗降低25%-30%,台積電期盼以此進一步擴展公司未來的技術領先地位。報告提到,N2技術的研發依計劃進行中,預計於2024試產,並於2025年量產。
台積電致股東營業報告書提到, N5家族技術已邁入量產的第三年,為台積電營收貢獻26%,公司持續強化N5家族的效能、功耗和密度;N4已於2022年開始量產,且公司也為支持下一波的N5產品,推出了N4P和N4X製程技術。N4P製程技術研發進展順利,預計於2024量產。
繼N3技術於2022年進入量產,N3E預計於2024下半年量產。台積電特別提到,N3和N3E客戶參與度非常高,量產第一年和第二年的產品設計定案數量將是N5的兩倍以上。公司預期N3家族將成為台積電另一個大規模且有長期需求的製程技術。
據中央社此前報導,台積電於美國時間26日舉辦北美技術論壇。台積電總裁魏哲家在會上表示N3E、N3AE製程預計於今年量產;強化版N3P製程預計2024年下半年量產;N2製程在良率和元件性能進展良好,將如期於2025年量產;N3X製程預計於2025年進入量產。
此外先進封裝方面,台積電正在開發有高達6個光罩尺寸(約5000mm2)重佈線層(RDL)中介層的CoWoS解決方案,能夠容納12個高頻寬儲存堆疊。三維晶片堆疊部分,台積電推出SoIC-P,作為系統整合晶片(SoIC)解決方案的微進化版本,提供有成本效益的方式來進行3D晶片堆疊。
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