近幾年,台積電、三星於半導體製程上超越了Intel,後者於14nm製程之前都是全球最先進的半導體公司,然而,於10nm製程遇到困難,給了對手可乘之機。
Intel於此過程當中為何會被超越呢?執行長Pat Gelsinger日前受訪時,特別提及Intel於EUV極紫外光微影製程上的選擇錯誤。
於EUV製程技術研發上,Intel為重要推手,ASML研發EUV曝光機亦得到了Intel不少的幫助,但Intel於10nm製程上未選擇EUV,而是嘗試了新的SAQP四重曝光技術,其目標是不依賴EUV曝光機亦能生產先進製程。
Pat Gelsinger表示,當初這個目標是很好的,然而,SAQP非常複雜,成本高,隨著時間發展,Intel站在了EUV錯誤的一邊,當時應該至少有一個並行的EUV戰略才對。
Pat Gelsinger所說的,其實就是過去幾年中,Intel於10nm製程上多次跳票的關鍵,近兩年才算是搞定了10nm製程的量產,現在改名為Intel 7製程。
至於EUV製程,Intel現在亦重視起來了,與ASML的合作很好,今年底將量產的Intel 4製程即為Intel首個EUV製程,用於Meteor Lake第14代Intel Core處理器,明年上市。
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