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作者: sxs112.tw
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[業界新聞] 為了2017年量產7nm製程,三星首次引入了EUV光刻機

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由於半導體製程越來越複雜,Intel的“Tick-Tock”鐘擺戰略已經放緩,從2年升級一次製程變成了3年一次,10nm製程已經延後到了2017年下半年。Intel腳步放慢,三星、TSMC可算是得到超越的機會了,原本跟在Intel後面的它們發力新一代製程,不僅10nm製程量產時間超過Intel,下下代的7nm節點上也在摩拳擦掌,這兩家爭著在明年搶先量產,而三星更是第一家引入量產型EUV光刻機,後者是製造7nm及5nm處理器的關鍵設備。
tsmc_semiconductor_fab14_production_7.jpg

三星、TSMC都想搶在Intel之前量產7nm製程,此前TSMC準備在7nm節點啟用EUV製程,並耗資引進EUV光刻機,但目前的情況來看TSMC已經把EUV量產放在了5nm製程上。現在三星接過了EUV搶先的勢頭,ASML公司CEO已經確認三星上週購買了EUV光刻機NXE3400,這將是EUV光刻機的正式量產型號。

從設備安裝到開始生產,至少要2-3個季,這意味著三星的7nm製程會爭取在明年推出,按照之前的發展過程來看,明年底三星可能會宣布量產7nm製程——雖然實際上可能只是小量生產,真正的大規模量產可能還要等到2018年之後。

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