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作者: sxs112.tw
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    [業界新聞] Micron工廠今年將上1-gamma製程,為部署EUV光刻技術做準備

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    1#
    sxs112.tw 發表於 2022-5-31 17:18:53 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
    根據Micron在Computex 大會上的演講,三家設在台中的工廠之一將在今年晚些時候升級EUV 光刻技術,從而為DRAM升級到1-gamma製程做準備。1-gamma 在上線初期只是研發製程,以幫助該公司為更廣泛地推廣EUV技術做準備。

    目前Micron的DRAM主要是採用1-alpha製程,而公司希望明年在台灣的工廠將1-beta製程轉為限量生產。Micron目前的1-alpha製程是採用DUV技術的,並在去年推出,該公司聲稱其記憶體密度比之前的1Z提高了40%。
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    Micron不再提及其常用的nm測量法的晶片尺寸,但據說其1Z製程約為11至13nm,因此如果其1-alpha製程尚未低於10nm,那麼1-beta製程最終很可能會低於10 nm。

    Micron的長期路線圖還包括1-delta製程,這本來是它的第一個EUV產品,但現在似乎已經提前到了1-gamma製程。Micron很可能會在適當的時候將其其他工廠轉移到EUV,但到目前為止與大多數其他類型的整合電路相比,DRAM還沒有從製程收縮中受益,所以EUV可能帶來的收益可讓我們拭目以待。

    消息來源
    2#
    wwchen123 發表於 2022-5-31 21:26:44 | 只看該作者
    "據說其1Z製程約為11至13nm"

    這推測有問題.
    1x, 1y, 1z 不會是 11nm,
    1 alpha 也離一段!   

    可以一次性端出 真.10nm 工藝的 DRAM 嗎?
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