日前記憶體晶片廠商爾必達(Elpida)正式宣佈,他們將為40nm的DRAM製程引入高K金屬柵極(High-K Metal Gate,即HKMG)技術,用於開發2Gb的LPDDR2移動平臺記憶體顆粒。 高K金屬柵極技術最早出現在英特爾的45nm製程 ...