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ASML公佈下一代Hyper-NA極紫外光刻計劃

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sxs112.tw
發佈時間: 2024-6-13 19:05

正文摘要:

ASML是全球唯一一家極紫外線 (EUV) 微影系統供應商，該系統對製造最先進的晶片至關重要，該公司公佈了進一步推動半導體微縮化的路線圖。在最近的一次演講中ASML前總裁Martin van den Brink宣布了該公司計劃推出一種 ...

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