比利時微電子研究中心(IMEC) 與ASML共同宣布雙方將在開發先進高數值孔徑(High-NA)極紫外(EUV)光刻試驗線的下一階段加強合作。按照ASML的說法,2025年開始客戶就能從數值孔徑為0.33傳統EUV多重圖案化,切換到數值 ...