三星之前製定計劃在2030年成為全球最先進的半導體製造公司之一,3nm是他們的一個殺手鐧,之前一直被良率不行等負面傳聞困擾,日前三星公司終於亮出首個3nm晶圓,按計劃將在今年Q2量產,比台積電還要早一些。
日前美國總統參觀了三星位於平澤市附近的工廠,這裡是目前全球唯一一個可以量產3nm的晶圓廠,三星首次公開了3nm製造的12吋晶圓,不過具體是哪款晶片還不得而知。
不過對三星來說,3nm是他們押注晶片製程趕超台積電的關鍵,因為台積電的3nm不會上下一代的GAA電晶體技術,三星的3nm就會啟用GAA技術,這是一種新型的環繞柵極電晶體,透過使用納米片設備製造出了MBCFET(Multi-Bridge-Channel FET),該技術可以顯著增強電晶體性能,主要取代FinFET電晶體技術。
根據三星的說法與7nm相比,3nm GAA技術的邏輯面積效率提高了45%以上,功耗降低了50%,性能提高了約35%,紙面參數上來說卻是要優於台積電3nm FinFET。根據三星之前的表態3nm將在2022年Q2量產,這個進度相比台積電的3nm還要激進,後者今年下半年也只能小規模試產,明年才會大規模量產3nm。
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