在中國科技龍頭華為技術有限公司申請的一項與先進半導體製造相關的專利於本月早些時候成為新聞後,一家專門從事某些晶片製造產品的台灣公司已停止向中國大陸供貨。華為的專利與透過極紫外 (EUV) 光刻技術製造晶片有關,該專利導致人們猜測中國可能能夠規避禁止其使用新技術獲取或製造晶片的限制。現在為EUV製造供應掩膜板等設備的台灣谷登精密工業公司已停止向中國大陸供應,並表示這不是暫停,而是暫時的延遲。
使用無數原材料輸入和產品的晶片製造過程涉及在晶圓片上印刷微小電路。該製程使用光源,EUV的一個主要優勢是其波長較短,可以輕鬆印刷較小的電路。相比之下DUV等早期技術必須依靠多次圖案化嘗試才能實現與EUV機器相同的電路尺寸,而EUV機器可以通過更少的圖案化嘗試實現。
這個過程的核心是一個掩模,其中包含印刷這些電路的圖案。這些掩模放置在光源下方和晶圓上方,一旦光線通過它們,它們就會阻擋不需要的光線,從而實現晶片製造。Gudeng Precision Industrial Co是全球最大的這些光罩供應商之一,在EUV製造方面佔據主導市佔率。它也是台積電這一關鍵設備的最大供應商之一。
由於一個掩模可用於多個晶圓,因此必須小心存放和在晶片製造機器之間運輸。為了確保精密設備在儲存和運輸過程中不被損壞,EUV光罩被存放在吊艙中。谷登的設備也通過了ASML的認證,是唯一一家有能力做EUV機器的公司。谷登回應媒體關於其暫停訂單的報導,並指出這只是暫時的。該公司還證實它也將繼續接受來自中國的訂單。在美國政府加大力度阻止中國獲得軍用先進技術後,這使其成為首批停止向中國供應的半導體製造耗材公司之一。
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