NVIDIA揭密:28nm對開普勒能效的貢獻
雖然有爆料稱NVIDIA對台積電已經恨之入骨,也有跡象表明NVIDIA正在尋求與GlobalFoundries、三星的代工合作,但對台積電的依賴已經如此之深,兩家還得好好合作下去。做為工程團隊的領導,Joe Greco已經在開普勒的製造上與台積電合作了三年,今天他就分享了28nm工藝對開普勒能效的一些影響。
開普勒核心照片
相信大家也看出來了,與以往不同,開普勒這次特別強調自己擁有更高的能效(Power Efficency),而不再單獨宣傳性能或者曲面細分之類的技術。Joe Greco也提到了一點,說開普勒的使命就是在每個能量單位(瓦特)上發揮最佳性能。
開普勒使用的台積電28nm工藝是其中的HP高性能版本,並融入了其第一代高K金屬柵極(HKMG)、第二代矽鍺應變(SiGe)技術。NVIDIA宣稱,此工藝相比於40nm可將運行功耗降低大約15%、漏電率降低大約50%,最終帶動整體能效提升大約35%,而在不同遊戲中,GeForce GTX 680相比於GeForce GTX 580的能效提升幅度少則60%、多則可達100%。
顯微鏡下的台積電28nm HP
28nm與開普勒能效提升
因為開普勒同時引入了新工藝和新架構(NVIDIA是這麼說的),開發模式也不同於以往。從前,NVIDIA負責設計、台積電負責制造,兩家各行其是,但這一次,開普勒流片之前三年雙方就開始了緊密合作,共同完成了生產認證平臺(PQV),使得台積電工藝工程師和NVIDIA設計工程師可以在流片之前就對工藝進行優化。通過反復試驗原型,工藝和設計兩方面都進行了優化,最終得到了能效更高的開普勒,而不是簡單地將晶片工藝換成28nm。
Joe Greco最後還說,開普勒只是萬里長征中的一步,NVIDIA未來還會繼續與台積電合作開發,事實上NVIDIA最近剛剛從台積電那裡拿到了20nm工藝增強版PQV的第一個版本,會在下下代GPU上獲得更高能效。
這就是說,2013年的“麥克斯韋”(Maxwell)仍會使用28nm,再往後的新一代就會進步到20nm。
NVIDIA GPU路線圖
(文/驅動之家)
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