找回密碼註冊
返回列表 發新帖
作者: sxs112.tw
查看: 5444
回復: 0

文章分享：

+ MORE精選文章：

+ MORE活動推薦：

體驗極速WiFi 7！MSI Roamii BE Lite Mesh

第一名 guanrung1110 https://www.xfastest.com/thread-293988-1- ...

極致效能 為遊戲而生 990 PRO SSD 玩家體驗

[*]極致效能固態硬碟 [*]PCIe 4.0 速度大幅提升 [*]優化的電源效率 ...

Micron Crucial PRO D5 6400超頻版 玩家開

解銷更快的遊戲速度！ 利用低延遲遊戲記憶體的強大功能 利用 Cruci ...

O11 VISION COMPACT 玩家開箱體驗分享活動

迷你身形 三面透視打造精緻PC視野新境界O11 VISION COMPACT 強強聯合 ...

打印 上一主題 下一主題

[業界新聞] 台積電3nm製程進度超前，EUV製程獲突破：直奔1nm

[複製鏈接]| 回復
跳轉到指定樓層
1#
sxs112.tw 發表於 2021-2-19 15:53:53 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
在ISSCC 2021國際固態電路會議上，台積電聯席CEO劉德音公佈了該公司的最新製程進展情況，指出3nm製程超過預期，進度將會提前。不過劉德音沒有公佈3nm製程到底如何超前的，按照他們公佈的訊息3nm是今年下半年試產，2022年正式量產。
ISSCC-Plenary-new-nodes.png

與三星在3nm製程激進選擇GAA環繞柵極電晶體管製程不同，台積電的第一代3nm製程比較保守，依然使用FinFET電晶體管。與5nm相比，台積電3nm的電晶體管密度提升70%，速度提升11%，或者功耗降低27%。

不論是5nm還是3nm，甚至未來的2nm，台積電表示EUV光刻機的重要性越來越高，但是產能依然是EUV光刻的難題，而且能耗也很高。劉德音提到台積電已經EUV光源技術獲得突破，功率可達350W，不僅能支援5nm，甚至未來可以用於1nm。按照台積電提出的路線圖，他們認為半導體製程也會繼續遵守摩爾定律，2年升級一代新製程，而10年則會有一次大的技術升級。

消息來源
回復

使用道具 舉報

返回列表 發新帖
高級模式
B Color Image Link Quote Code Smilies
您需要登錄後才可以回帖 登錄 | 註冊 |

本版積分規則

特別活動
專題活動
Computex報導
GAMFORCE
XFastest 專頁

SiteLock

相關資訊

小黑屋|手機版|無圖浏覽|網站地圖|XFastest  

GMT+8, 2024-11-17 09:59 , Processed in 0.097693 second(s), 34 queries .

專業網站主機規劃 威利 100HUB.COM

© 2001-2018

快速回復 返回頂部 返回列表