不久前TSMC官方宣布了6nm(N6)製程,在已有7nm(N7)製程的基礎上增強而來,號稱可提供極具競爭力的高CP值,而且能加速產品研發、量產、上市速度。
台積電CEO兼副董事長魏哲家最新披露,絕大多數7nm客戶,都會轉向6nm,使用率和量產產能都會迅速擴大。考慮到6nm沿用了7nm的設計規則,升級還是相當容易的,成本增加不大,性能功耗方面又有提升(雖然不會特別明顯),客戶自然也樂得上新製程,看起來這代製程會相當流行。
台積電現在的7nm製程有兩個版本,第一代7nm(N7)採用傳統DUV光刻技術,第二代7nm+(N7+)則是首次加入EUV極紫外光刻,已進入試產階段,預計下一代蘋果A、華為麒麟都會用,2019年兩者合計可貢獻大約25%的收入。新的6nm製程也有EUV極紫外光刻技術,相比7nm+(N7+)增加了一個極紫外光刻層,同時相比7nm(N7)可將電晶體管密度提升18%,而且設計規則完全相容7nm(N7 ),便於升級,降低成本,相比之下7nm+(N7+)則是另一套設計規則。
TSMC 6nm預計2020年第一季試產,再往後的5nm製程也已經開始試產,號稱相比於第一代7nm電晶體管密度提升45%,可帶來15%的性能提升或20%的功耗下降。事實上TSMC預計多數7nm製程客戶會轉向6nm然後再次升級到5nm,7nm+則不會那麼普及,不少客戶可能會選擇跳過。
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