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作者: Gary71
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[業界新聞] 良率不及20% 三星2nm製程仍舊難堪大任

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據TrendForce最新報告,三星2nm製程仍面臨極大困難,目前良率僅可憐的10-20%,完全無法投入量產。

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受此壓力,三星計劃於海外更大規模地裁員,從美國德州的泰勒廠撤回更多人員。

事實上,據稱三星晶圓廠的整體良率皆不到50%,尤其是於3nm及更先進製程上非常差勁。要曉得,台積電的整體良率約有60-70%。

三星官方的計畫是,2025年量產2nm製程,包括:SF2、SF2P、SF2X、SF2A、SF2Z等多個不同版本,2027年繼續量產1.4nm製程。

據悉,三星2nm製程進一步完善了MBCFET架構(Multi-Bridge Channel Field-Effect Transistor),具有獨特的外延與整合製程,與採用FinFET鰭式場效電晶體架構的製程技術相比,電晶體效能提升最多46%,可變性降低26%,漏電率降低約50%。

先前還有消息指稱,三星3nm製程良率不到20%,三星對此回應表示,其於2022年全球首次量產3nm GAA製程之後,第二代3nm製程效能穩定,且產量已步入正軌。

目前,台積電佔據全球晶圓代工市場62.3%的市佔,遙遙領先,三星雖然位居第二名,但市佔僅為11.5%。

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