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作者: sxs112.tw
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[業界新聞] Intel獲得ASML今年將生產的所有高數值孔徑EUV微影機

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sxs112.tw 發表於 2024-5-9 21:47:34 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
Intel已將賭注押在ASML的高數值孔徑EUV微影技術的未來，並為今年生產的所有機器下了訂單。

Elec報導稱Intel信任這家荷蘭晶片製造商的高數值孔徑極紫外 (EUV) 光刻設備，因為該公司保留了所有五到六個套件的訂單，這些套件將於今年生產。雖然尚未得到證實，但Intel計劃在即將推出的18A（1.8nm）和14A（1.4nm）中利用ASML的魔力，透過該公司的代工部門計劃領先於市場競爭對手，並保留高NA EUV事實證明，裝備對Intel非常有利。
newsroom-intel-high-na-euv-2.jpg.rendition.intel_.web_.1648.927.jpg

據透露，除了Intel之外，三星和海力士等市場競爭對手預計將收到首批高數值孔徑EUV光刻機，預計將於2025年下半年交付。但與競爭對手相比，Intel可能能夠更快地實現卓越的製程，這意味著在市場競爭方面，Intel可能遠遠領先於其他公司，儘管我們不會對良率和製程發表太多評論效率，因為這是另一個話題。
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據報導這些高數值孔徑EUV微影機的單一成本據稱為5,000億韓元，約合3.7億美元。而Intel已經收購了五到六個單位，總投資額可能達到20億美元左右。

透過ASML，Intel可能會嘗試再次恢復其在市場上的聲譽，還有什麼比向高階設備投入大量資金更好的方法，但這些資金也是來自美國納稅人獲得的資金，然後透過諸如此類的計劃進行分配例如CHIPS法案。

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