找回密碼註冊
返回列表 發新帖
作者: Gary71
查看: 4090
回復: 0

文章分享：

+ MORE精選文章：

+ MORE活動推薦：

EDEG 850W 玩家開箱體驗分享活動

EDEG 850W 雙艙首選，一體雙能 EDGE 系列電源，革命性的L型設計，內 ...

SAMA幻境界 玩家開箱體驗分享活動

[*]270度全景透側無打孔玻璃配置 , 完全符合您視覺的美感 [*]內建 ...

極致效能優化 三星990 EVO 玩家體驗分享活

[*]進化日常效能 極致效能優化、電源效率提升、廣泛的通用 ...

FSP VITA GM White 玩家開箱體驗分享活動

中秋佳節，全漢加碼活動來囉~ [*]符合最新 Intel ® ATX 3.1電源設 ...

打印 上一主題 下一主題

[業界新聞] 不怕你偷學 ASML展示最新EUV曝光機內部畫面

[複製鏈接]| 回復
跳轉到指定樓層
1#
Gary71 發表於 2024-2-12 20:59:23 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
ASML對外展示了最新EUV曝光機內部畫面，或許在其看來，就算把這些全部展現給大家看，亦無辦法偷學其技術。

004.png

該系統已獲得Intel訂單，首台機器已於去年年底運抵位於奧勒岡州的D1X工廠，Intel計劃於2025年年底開始使用該系統進行生產。

High-NA EUV曝光機能夠於半導體上蝕刻出僅8nm寬的線條，是上一代產品的1/1.7。更細的線條意味著晶片可以容納更多的電晶體，進而實現更快的處理速度及更高的儲存容量，此對於人工智慧工作負載至關重要。

ASML上季收到了創紀錄的頂級EUV曝光機訂單，顯示了包括Intel、三星、台積電在內的大客戶對該技術的樂觀預期。

003.png

005.png

006.png

008.png


訊息來源
回復

使用道具 舉報

返回列表 發新帖
高級模式
B Color Image Link Quote Code Smilies
您需要登錄後才可以回帖 登錄 | 註冊 |

本版積分規則

特別活動
專題活動
Computex報導
GAMFORCE
XFastest 專頁

SiteLock

相關資訊

小黑屋|手機版|無圖浏覽|網站地圖|XFastest  

GMT+8, 2024-9-28 12:40 , Processed in 0.077679 second(s), 33 queries .

專業網站主機規劃 威利 100HUB.COM

© 2001-2018

快速回復 返回頂部 返回列表