找回密碼註冊
返回列表 發新帖
作者: sxs112.tw
查看: 5426
回復: 0

文章分享：

+ MORE精選文章：

+ MORE活動推薦：

GEX PRO 850W玩家開箱體驗分享活動

卓越性能，超值選擇 GEX PRO 系列通過 80 PLUS 金牌認證，實現高達 ...

體驗極速WiFi 7！MSI Roamii BE Lite Mesh

第一名 guanrung1110 https://www.xfastest.com/thread-293988-1- ...

極致效能 為遊戲而生 990 PRO SSD 玩家體驗

[*]極致效能固態硬碟 [*]PCIe 4.0 速度大幅提升 [*]優化的電源效率 ...

Micron Crucial PRO D5 6400超頻版 玩家開

解銷更快的遊戲速度！ 利用低延遲遊戲記憶體的強大功能 利用 Cruci ...

打印 上一主題 下一主題

[業界新聞] 台積電已經在探索比1.4nm更先進的製程

[複製鏈接]| 回復
跳轉到指定樓層
1#
sxs112.tw 發表於 2023-7-29 19:51:09 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎勵 |倒序瀏覽 |閱讀模式
隨著半導體製程深入到5nm以下，製造難度與成本與日俱增，摩爾定律的物理極限大約在1nm左右，再往下就要面臨嚴重的量子穿隧難題，導致電晶體管失效。當然，各大廠商的先進製程在實際尺寸上都是有浮誇一點的，所以紙面意義上的1nm製程還是會有的，台積電去年就組建團隊研發1.4nm製程，日前CEO劉德音又表示已經在探索比1.4nm更先進的製程了。
4scqcThFGETokzsRxRipRH.jpg

1.4nm再往下就是1nm了，這也是半導體行業都在追求的製程，去年IMEC歐洲微電子中心公佈的路線圖顯示，2nm之後是14A，也就是1.4nm，預計2026年問世，再往後就是A10，也就是1nm，2028年問世。當然實際能量產的時間可能回比2028年晚一些，畢竟新技術不跳票是不可能的。

與此同時在2nm之後的新製程研發生產中，EUV光刻機也要大升級一次，ASML預計會在2026年推出High NA技術的下一代EUV光刻機EXE:5000系列，將NA指標從當前的0.33提升到0.55，進一步提升光刻解析度。但是下一代EUV光刻機的代價也很高，售價會從目前1.5億美元提升到4億美元以上，最終價格可能還要漲。

消息來源
回復

使用道具 舉報

返回列表 發新帖
高級模式
B Color Image Link Quote Code Smilies
您需要登錄後才可以回帖 登錄 | 註冊 |

本版積分規則

特別活動
專題活動
Computex報導
GAMFORCE
XFastest 專頁

SiteLock

相關資訊

小黑屋|手機版|無圖浏覽|網站地圖|XFastest  

GMT+8, 2024-11-23 05:43 , Processed in 0.090447 second(s), 33 queries .

專業網站主機規劃 威利 100HUB.COM

© 2001-2018

快速回復 返回頂部 返回列表