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三星將於下季購買首台高數值孔徑EUV光刻機，預計2025年底投入商業使用

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發佈時間: 2024-8-17 21:06

正文摘要:

三星希望在下個季之前添加其首款尖端高數值孔徑EUV光刻設備，從而推動該行業的半導體競賽。 對於晶片製造商來說，高數值孔徑設備的使用現在被視為優質，這家韓國龍頭是最後一家從ASML獲得下一代EUV光刻工具的公司。 ...

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