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FRACTILIA為微影圖案化的隨機性誤差新增光學鄰近校正量測功能以提升EUV微影圖案化在先進...

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發佈時間: 2024-6-14 12:18

正文摘要:

FAME™ OPC自動化解決方案為光學鄰近校正的建模分析,提供顯著提升的精準度並大幅縮短達成結果所需時間 致力於先進半導體製造的隨機性(stochastics)微影誤差量測與控制解決方案領導業者Fractilia,宣布推出 ...

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