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ASML High NA EUV光刻機晶圓製造速度提升150%，可列印8nm線寬

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發佈時間: 2024-5-31 22:02

正文摘要:

5月30日消息光刻機大廠ASML在imec（比利時微電子研究中心）的ITF World 2024會議上宣布其首款High-NA EUV光刻機已創下新的晶圓製造速度記錄，超過了兩個月前創下的紀錄。 根據ASML前總裁兼技術長、現任公司顧問的Ma ...

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