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日本Nikon宣布全新ArF浸沒式光刻機：精度小於2.1nm、價格便宜30％

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發佈時間: 2023-12-10 20:00

正文摘要:

Nikon宣布將於2024年1月正式推出ArF 193nm浸沒式微影機NSR-S636E，生產效率、套刻精度都會有進一步提升。 據悉Nikon這款曝光機採用增強型iAS設計，可用於高精度測量、圓翹曲和畸變校正，重疊精度(MMO)更高，號稱不 ...

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