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供不應求 ASML:EUV光刻機產能即將大提升

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發佈時間: 2022-6-17 12:44

正文摘要:

於半導體生產中,光刻機是核心設備,不僅決定了晶片製造的製程水準,亦為耗時最多、成本最高的一步,目前先進的7nm、5nm及接下來的3nm製程皆需要EUV光刻機,即使一台要價不菲,仍是供不應求。 EUV光刻機目前僅有荷 ...

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clouse 發表於 2022-6-18 22:55:19
效率太差至少要100

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