於半導體生產中,光刻機是核心設備,不僅決定了晶片製造的製程水準,亦為耗時最多、成本最高的一步,目前先進的7nm、5nm及接下來的3nm製程皆需要EUV光刻機,即使一台要價不菲,仍是供不應求。 EUV光刻機目前僅有荷 ...