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ASML介紹新一代高NA EUV光刻機：晶片縮小1.7倍、密度增加2.9倍

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sxs112.tw
發佈時間: 2021-12-13 23:01

正文摘要:

按照業內預判2025年前後半導體在微縮層面將進入埃米尺度（Å，angstrom，1埃 = 0.1nm）。根據ASML（阿斯麥）透露的最新資訊，第一台原型試做機2023年開放，預計由IMEC（比利時微電子研究中心）裝機，2025年後量產， ...

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