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製造1nm晶片的EUV光刻機：ASML已完成設計

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sxs112.tw
發佈時間: 2020-11-30 15:46

正文摘要:

本月中旬在日本東京舉辦了ITF論壇。 論壇上與ASML合作研發光刻機的比利時半導體研究機構IMEC公佈了3nm及以下製程的在微縮層面技術細節。至少就目前而言ASML對於3m、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路線規劃 ...

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