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中國科學院院士表示，中國大陸在光刻技術與國外差距至少 15-20 年

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qxxrbull
發佈時間: 2019-9-17 17:01

正文摘要:

在 2019 中國積體電路設計大會上，中國科學院微電子所的院士劉明，談到中國大陸國內積體電路光刻技術的一些技術與進展。 劉明院士在會上表示 : 我國在 EUV 光源、多層膜、掩膜、光刻膠、超光滑拋光技術等方面近期雖 ...

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