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ASML研發第二代EUV光刻機：性能提升70% 2025年問世

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sxs112.tw
發佈時間: 2019-7-3 16:58

正文摘要:

半導體製造過程中最複雜也是最難的步驟就是光刻，成本能占到整個生產過程的1/3，光刻機也因此成為最重要的半導體製造裝備，沒有之一。目前最先進的光刻機是荷蘭ASML公司生產的EUV光刻機，每台售價超過1億美元，而且 ...

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