2016年10nm節點啟用EUV製程，Intel搶頭香

Intel今年已經開始量產14nm製程，下一代製程將是10nm，Intel原本計劃在2015年底開始投產10nm製程。隨著半導體製程進入10nm內，新一代EUV光刻設備也愈加重要，這還要看荷蘭ASML公司的研發進度了。日前該公司公佈了Q3財報，其中提到他們將在2016年10nm製程節點上正式啟用EUV光刻製程，首個客戶普遍認為是Intel公司。

荷蘭ASML公司是全球最大的半導體裝備製造公司，他們兩年前推出了試驗型EUV光刻設備NXE:3100，量產型則是NEX:3300B，該設備每天的晶圓產能已經達到了500片，不過這個產能跟當初提到的每小時70片晶圓相差還是很多。ASML還提到了他們正在跟一個客戶合作，準備在2016年的10nm中期節點安裝EUV光刻設備，這意味著兩年後的10nm節點上我們會正式迎來EUV製程，談論了多年的技術終於開始量產了。
ASML並沒有公佈這個客戶的名字，不過業界普遍認為這是Intel公司，Intel不僅是ASML公司的大客戶，也是大股東之一，2012年投資41億美元獲得了ASML公司15%的股份，對推動EUV光刻製程也是最積極的，當然，Intel也是最有實力和財力的，首先應用EUV製程並不意外。

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