支持後2nm製程時代！ ASML將出貨最新EUV光刻機EXE:5200，Intel是買家
據國外媒體報導稱ASML已經確認即將出貨最新的EUV光刻機EXE:5200，相比上代來說，表現更加強悍，當然不會賣給中國廠商。根據官方的說法EXE:5200是現有初代High NA EUV光刻機EXE:5000的改良款，將擁有更高的晶圓吞吐量（EXE:5000為每小時185片以上），可以更好的為2nm製程量產做支撐。
在這之前ASML宣布Intel訂購了業界首個TWINSCAN EXE:5200光刻機（一種具有高數值孔徑和每小時200 多片晶圓的極紫外線(EUV) 大量生產系統），這標誌著他們在導入0.55 NA EUV的道路上又邁出了一步。
TWINSCAN EXE:5000和EXE:5200都提供了0.55數值孔徑，比前代EUV光刻機0.33數值孔徑透鏡的精度提高了，可以為更小的電晶體功能提供更高解析度的模式。EUV 0.55 NA的設計旨在從2025年開始實現多個未來製程，這是業界首次使用，隨後將採用類似密度的記憶體技術。
消息來源 沒用注定失敗:$..:time:...
頁:
[1]