不怕你偷學 ASML展示最新EUV曝光機內部畫面
ASML對外展示了最新EUV曝光機內部畫面，或許在其看來，就算把這些全部展現給大家看，亦無辦法偷學其技術。該系統已獲得Intel訂單，首台機器已於去年年底運抵位於奧勒岡州的D1X工廠，Intel計劃於2025年年底開始使用該系統進行生產。
High-NA EUV曝光機能夠於半導體上蝕刻出僅8nm寬的線條，是上一代產品的1/1.7。更細的線條意味著晶片可以容納更多的電晶體，進而實現更快的處理速度及更高的儲存容量，此對於人工智慧工作負載至關重要。
ASML上季收到了創紀錄的頂級EUV曝光機訂單，顯示了包括Intel、三星、台積電在內的大客戶對該技術的樂觀預期。
訊息來源
頁:
[1]