日本Canon：我們能造2nm晶片！不需要ASML微影機
日本光刻機大廠佳能（Canon）在今年10月13日宣布推出可以製造尖端晶片的納米壓印（Nanoprinted lithography，NIL）設備FPA-1200NZ2C之後，Canon CEO御手洗富士夫近日在接受採訪時再度表示，該公司新的奈米壓印技術將為小型半導體製造商生產先進晶片開闢一條道路，使得生產先進晶片的技術不再只有少數大型半導體製造商所獨享。奈米壓印技術並未利用光學影像投影的原理將積體電路的微觀結構轉移到矽晶圓上，而是更類似於印刷技術，直接透過壓印形成圖案。在晶圓上只壓印1次，就可以在特定的位置形成複雜的2D或3D電路圖。當下的5nm製程的先進半導體製造設備市場，則由ASML的EUV光刻機壟斷，單一價格約1.5億美元。
對於接下來更先進的2nm及以下製程的晶片，ASML也推出了成本更為高昂的High-NA EUV光刻機，單台價格將超過3億美元，這也使得尖端製程所需的成本越來越高。相較之下Canon目前的奈米壓印技術將可以使得晶片製造商不依賴EUV光刻機就能生產最小5nm製程的邏輯半導體。
Canon半導體設備業務部長岩本和德也表示如果改進光罩，奈米壓印甚至可以生產2nm先進製程的晶片。更關鍵的是Canon的奈米壓印設備成本和製造成本都遠低於ASML的EUV微影機。岩本和德表示客戶的成本因條件而異，據估算1次壓印工序所需的成本，有時能降至傳統曝光設備工序的一半。而且因為奈米壓印設備的規模較小，在研發等用途上也較容易引進。
Canon CEO禦手洗富士夫先前曾表示該公司的奈米壓印設備的價格將比ASML的EUV光刻機低一位數（即僅有10%）。在客戶方面Canon表示目前收到了半導體廠商、大學、研究所的許多諮詢，以期待作為EUV設備的替代產品，讓奈米壓印設備備受期待。預計該設備將可用於快閃記憶體、個人電腦用DRAM，以及邏輯等多種半導體生產用途。
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