(PR)NVIDIA、ASML、TSMC和Synopsys借助cuLitho將下一代晶片製造速度提高了40倍
NVIDIA與TSMC、ASML和Synopsys攜手合作使用cuLitho將下一代晶片製造速度提高40倍。新聞稿：NVIDIA今天宣布一項突破，將加速計算帶入計算光刻領域，使ASML、TSMC和Synopsys等半導體領導者能夠在當前生產製程接近極限的情況下加速下一代晶片的設計和製造。
用於計算光刻的全新NVIDIA cuLitho軟體庫正由全球領先的晶圓代工廠台積電和電子設計自動化領導者Synopsys整合到其最新一代NVIDIA Hopper架構GPU的軟體、製造流程和系統中。設備製造商ASML在GPU和cuLitho方面與NVIDIA密切合作，併計劃將對GPU的支援整合到其所有計算光刻軟體產品中。
這一進步將使晶片有比現在更細的晶體管和電線，同時加快上市時間並提高24/7全天候執行以驅動製造過程的大型數據中心的能源效率。在GPU上執行，cuLitho比目前光刻技術（在晶圓上打造圖案的過程）提供高達40倍的性能飛躍，加速目前每年消耗數百億CPU小時的大量計算工作負載。
它使用500個NVIDIA DGX H100系統能夠完成40,000個CPU系統的工作，並行執行計算光刻過程的所有部分，有助於減少電力需求和潛在的環境影響。在短期內使用cuLitho的晶圓廠可以幫助每天多生產3-5倍的光掩模——晶片設計的模板——使用比當前配置低9倍的功率。需要兩週才能完成的光掩模現在可以在一夜之間完成。從長遠來看cuLitho將實現更好的設計規則、更高的密度、更高的產量和AI驅動的光刻。
消息來源
頁:
[1]