供不應求 ASML：EUV光刻機產能即將大提升
於半導體生產中，光刻機是核心設備，不僅決定了晶片製造的製程水準，亦為耗時最多、成本最高的一步，目前先進的7nm、5nm及接下來的3nm製程皆需要EUV光刻機，即使一台要價不菲，仍是供不應求。EUV光刻機目前僅有荷蘭ASML可以生產，其產能將決定全球先進製程擴張的速度。日前，ASML資深副總裁Christophe Fouquet於高盛會議上確認，將增加EUV光刻機的產能。
ASML原本預計2025年的EUV光刻機年產能為70台，現在決定提升至每年90台，有助於紓解產能不足的問題。
今年第二季尚未結束，ASML即收到了超過100台EUV光刻機的訂單，此已大幅超過了其產能。ASML今年原計劃出貨EUV光刻機不過55台，僅能滿足一半的訂單量，客戶皆需排隊等待。
訊息來源 效率太差至少要100
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