Intel & ASML攜手TWINSCAN EXE:5200開啟半導體光刻技術新時代
ASML Holding NV（或稱ASML）和Intel公司透露了合作公司計劃，透過Intel購買ASML的TWINSCAN EXE:5200系統來進一步發展半導體光刻技術——這是一種極紫外限量生產系統，提供高數值孔徑，將提供更多每小時超過200個晶圓的生產水平。兩家公司有著長期的合作夥伴關係，並且都將從2025年開始的長期高數值孔徑框架中受益。Intel去年7月在公司的Accelerated活動中披露，它打算提供首個High-NA技術，以促進其電晶體管創新計劃。Intel在2018年率先購買之前的TWINSCAN EXE:5000 系統時，繼續表現出對高NA技術的興趣。透過從合作公司ASML的新採購，Intel繼續推動公司的高NA EUV製造，並將從2025年開始。
消息來源
頁:
[1]