製造1nm晶片的EUV光刻機：ASML已完成設計
本月中旬在日本東京舉辦了ITF論壇。論壇上與ASML合作研發光刻機的比利時半導體研究機構IMEC公佈了3nm及以下製程的在微縮層面技術細節。至少就目前而言ASML對於3m、2nm、1.5nm、1nm甚至Sub 1nm都做了清晰的路線規劃，且1nm時代的光刻機體積將增大不少。
據稱在當前台積電、三星的7nm、5nm製造中已經導入了NA=0.33的EUV曝光設備，2nm之後需要更高解析度的曝光設備，也就是NA=0.55。好在ASML已經完成了0.55NA曝光設備的基本設計（即NXE：5000系列），預計在2022年實現商業化。
至於上文提到的尺寸為何大幅增加就是光學器件增大所致，潔淨室指標也達到天花板。ASML目前在售的兩款極紫外光刻機分別是TWINSCAN NXE:3400B和TWINSCAN NXE:3400C，3600D計劃明年年中出貨，生產效率將提升18%。
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