三星FinFET技術侵權案宣告和解：Intel此前已付錢
FinFET是當前的晶圓代工領域可謂是大放異彩的核心技術，台積電甚至打算一路用到3nm時代。不過三星在過去4年的時間內，深陷FinFET專利侵權案中，直到最近才了結。官司的原告是韓國科學技術院（KAIST），其在2001年在美國和韓國提交了FinFET技術相關專利，由韓國科學技術院與首爾大學教授Lee Jong-ho合作開發。
2016年11月29日的時候，韓國科學技術院在美國德州對三星、高通和GlobalFounderies提起了FinFET專利侵權訴訟。據說Intel是乖乖交過了相關“保護費”。
2018年6月和2019年2月，KAIST先後兩次起訴三星，聲稱後者生產的7nm、8nm、10nm、11nm、14nm手機應用處理器均涉侵權之列，要求4億美元賠償。今年2月法院判令三星賠償2億美元。目前該案已和解，和解細節不詳。
消息來源 所以說三星技術請三星代工比較可能因為產能利用率太低.
頁:
[1]